Вольфрамовый лист 7х160х2000 мм В-МП в Калуге

Вольфрамовый лист ВД идеально подходит для рентгеновских трубок. Это обусловлено его высокой плотностью, высоким атомным номером и температурой плавления, что обеспечивает эффективное тормозное излучение для генерации рентгеновских лучей и высокую термическую стабильность мишени.

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Лист ВА подвержен коррозии под воздействием газообразного хлора при 100°С. Вольфрам активно реагирует с хлором, образуя летучие хлориды вольфрама, что приводит к быстрому разрушению материала в такой атмосфере.

Чистота вольфрамового листа на предмет металлических включений контролируется методами металлографического анализа (микроскопия) и неразрушающего контроля. Например, вихретоковый или ультразвуковой контроль позволяют выявить внутренние дефекты и посторонние включения, влияющие на свойства.

Листы ВА, ВД, а также ВР-20 и ВР-27ВП обеспечивают максимальную химическую инертность в средах, где отсутствуют агрессивные окислители или галогены. Эти материалы сохраняют стабильность при сверхвысоких температурах в вакууме, инертных газах и водороде.

При глубокой вытяжке деталей из вольфрамового листа необходимо учитывать его низкую пластичность при комнатной температуре. Процесс требует нагрева заготовки до температур рекристаллизации, многократных операций с промежуточным отжигом и использования специального оборудования для предотвращения растрескивания.